第278章 浸没式光刻机
燕刀刀提示您：看后求收藏（第278章 浸没式光刻机,重生：自己培养校花，真的香,燕刀刀,滴答文学网），接着再看更方便。
请关闭浏览器的阅读/畅读/小说模式并且关闭广告屏蔽过滤功能，避免出现内容无法显示或者段落错乱。
光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
最早的光刻技术出现于1822年，起初是法国人Joseph Nicephore niepce（涅普斯）试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕。他先将油纸放在一块玻璃片上，在上面涂满了一种在植物油中溶解的沥青，经过一段时间的暴晒之后，透光部分的沥青就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
这项发明出现的很早，将其使用于制造印刷电路板却已经是100多年后的故事了。
也就是二十世纪末。
随着发展，光刻机需要的光源波长，一降再降。
从二十世纪90年代开始，光刻机竞争的主战场成为了光源波长的竞争。
光源波长从365nm降低到了193nm，对应的制程也从800~250nm减小到130~65nm。
随着摩尔定律的推进，�
更多内容加载中...请稍候...
本站只支持手机浏览器访问，若您看到此段落，代表章节内容加载失败，请关闭浏览器的阅读模式、畅读模式、小说模式，以及关闭广告屏蔽功能，或复制网址到其他浏览器阅读！
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！
本章未完，点击下一页继续阅读。